浙江大學曹陽教授

⑴ 關於名人

最出名的就是威靈頓了，從常敗將軍，到滑鐵盧的英雄，在到後來的英國首相；他是與拿破崙齊名的人物。

⑵ 武漢大學微電子與信息技術研究院的研究院組成

EDA軟體工程研究室
該研究室現有兩名教授、博士生導師和兩位具有博士學位的年青講師。致力於開發快速、精確且高性能的具有自我知識產權的超深亞微米集成電路電子設計自動化軟體。集成電路目前已發展到超深亞微米階段，可以在幾平方厘米的晶元上集成數千萬個晶體管，從而導致集成電路只能通過EDA平台來進行設計。EDA平台是指以計算機為工作平台，融合了應用電子技術，計算機技術，智能化技術等最新成果而研製成的電子設計通用工具軟體，它涵蓋了電子設計、建模、模擬、驗證、製造全過程的所有技術。王高峰教授領導EDA軟體工程研究室研發成功了互連線寄生參數提取工具集，包括器件級（晶體管級）參數提取和全晶元（full chip）參數提取。該軟體主要用於從版圖提取互連線之間的寄生參數，包括寄生電容（C）和寄生電感（L）。輸出包括了各種寄生參數的電路網表進行模擬驗證，以確保真正製造出來的集成電路符合設計需求。到目前為止，已完成兩個版本QXT1.0和QXT2.0的設計軟體。
研究室組成人員：王高峰、梁意文、孫世磊、汪鼎文。
數字集成電路研究室
該研究室現有三名教授、博士生導師和一名副教授。①李元香教授將可編程邏輯器件的可重配置特性與演化演算法相結合提出了的一種新的硬體設計方法，它通過模擬自然的演化過程，將演化演算法用於硬體電路以及電子電路系統的自動設計，使硬體具有自適應、自組織、自修復等進化特徵，能夠根據環境的變化而改變自身的配置和結構，動態適應生存環境。②曹陽教授和李德識教授集中於IP核技術的研究與設計。③江先陽副教授參與的驪山RISC CPU的設計和曙光超級計算機體系的研製都已經轉化成產品得到應用。
研究室組成人員：江先陽、曹陽、李德識、李元香。
集成電路工程應用中心
該研究室現有一位教授、博士生導師，一位教授和一位具有博士學位的年青講師。主要從事嵌入式操作系統研究，嵌入式軟體設計，圖像採集、處理和傳輸的研究。①嵌入式操作系統研究主要是以ARM9平台為目標板，對嵌入式Linux，WinCE等嵌入式操作系統進行剪裁，針對特定的平台進行移植，設計出好的操作系統內核和應用操作界面。②在圖形與圖像處理演算法、硬體電路設計方面，積累了豐富的工程實踐經驗，其中主要的研究技術積累包括：A）ADI DSP技術及應用；B）TI系列DSP技術及應用；C)FPGA技術及其應用；D）高速大容量數據採集記錄技術；E）圖像信號發生器；F）高速海量圖像處理平台等等。集成電路工程中心研發具有自主知識產權的技術和系統，以滿足國家和行業部門的需求，該工程中心將是本實驗室服務於社會的主要機構。我們將通過該工程中心將實驗室的科研成果進行實用型轉化，並承接和管理橫向合作項目。
研究室組成人員：鄧德祥、胡繼承、陳曦。
射頻及微波集成電路研究室
該研究室現有一位教授、一位副教授和一位具有博士學位的年青講師。該研究室將射頻和數模混合集成電路設計，射頻與微波器件建模和射頻和微波電路EDA軟體工具開發作為研究的三個主要發展方向。通過整合武漢大學在射頻和微波研究方面的已有資源，達到提高射頻和微波集成電路研究方面的科研水平，進一步促進科研成果向產業化力度，積極推進與國內外知名企業、公司和科研機構共建科研實驗室。
研究室組成：江金光、陳章友、祁昶。
光集成電路研究室
該研究室現有一位教授、博士生導師，一位教授和一位副教授。該研究室的研究集中在以下兩個方面：①新型集成光學器件的建模、模擬及CAD工具開發；②光互連的建模、模擬及CAD工具開發。在光集成電路領域有豐富的研究和教學實踐經驗。竇任生教授長期從事光學和激光技術方面的科學研究和工程技術工作，研製過空心陰極氣體激光器、檢測和裝配精密儀器的光學工作平台、用於光通信器件生產的光學設備等；從事過光子相干光譜學、光學模式識別、圖象處理、自適應光學等實驗研究。發明了一種利用單一液晶光空間調制器能同時進行光波面的測量和校正的自適應光學系統。曾立波教授是中國儀器儀表學會分析儀器分會理事，分析儀器學會微分析儀器專業委員會委員。主持國家十五攻關項目「光譜成像分析系統的研製與開發」， 項目經費400萬元。作為核心成員參加國家十五攻關項目「科學儀器通用軟體平台的研製與開發」和國家九五攻關項目「阿達瑪變換顯微圖像分析儀」。主持並完成多項重大課題，鑒定（驗收）結論優秀，達到國際先進水平。研究成果多次被選為科技部大型儀器改造技術推廣項目，並在清華大學等80多家單位使用，受到廣泛好評。研製成功的電調諧濾光顯微可見光光譜成像濾光器件，在顯微圖像分析的多個領域取得了顯著的成績。
研究室組成人員：曾立波、竇任生、石新智。
半導體器件研究室
半導體器件研究室主要研究集成電路中使用的微納電子器件的建模、模擬及設計。隨著集成電路產業不斷發展，晶元體積不斷縮小，典型加工尺寸已由微米級進入到納米級（λ<45nm）。傳統的硅工藝中出現了一系列量子級的新效應，為保證此尺度下正確描述器件和電路的工作狀態，這些效應將不能被忽略。此外，為解決硅工藝的困難，一些嶄新的工藝方法，如碳納米管場效應管，不斷出現。對這些新效應、新工藝、新方法的分析、建模、模擬以及將它們對器件的影響正確的反映就成為非常必要而且重要的工作。微納電子器件研究室的總體研究方向即是對此微納尺度下集成電路中有源器件模型，特別是納米級場效應管的研究。研究工作包括對已有量子器件數值模型的解析化、對微納MOS器件量子效應研究和對碳納米管FET和互連線模型研究。
研究室組成人員：王高峰、黃啟俊、常勝。
MEMS器件及工藝研究室
研究MEMS計算機輔助設計(MEMS CAD)技術，在正式試片前用於輔助MEMS產品的設計，1) 對MEMS器件進行模擬，理解微小范圍內的力、熱、電磁等能量之間的相互作用。2)實現MEMS設計和性能分析的高速化、自動化、可視化，實現加工工藝的參數化控制，優化MEMS結構和工藝，減少試製成本；3) 縮短設計、製作周期,提高製作過程的可重復性，從而大大提高MEMS器件的性能-價格比，增強市場競爭力。預期目標：開發出可達到實用的新型微流體器件；開發出微納系統級、器件級MEMS CAD工具，實現MEMS建模、模擬及可視化。總體而言，我們的MEMS研究室將致力於MEMS器件的設計、模擬及驗證、加工工藝、系統集成等方面的研究。
研究室人員組成：方國家、劉鋒、周啟發。

⑶ 2009淮北市一中錄取名單

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